反射式EUV測試圖案
可提供圖案：線寬和縫寬80 nm以下。
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產品介紹：
· 反射型。
· 可提供圖案：線寬和縫寬80 nm以下。其他圖案還在研發(fā)中。
· 線上可以加工“缺口”，線之間可以加工“橋接”用于標記。
· 由于設計靈活，所以性能更高，成本也更低。
· 正在開發(fā)50 nm及以下的線縫和縫寬圖案。在有限條件下，可以提供圖案分辨率樣本。